真空镀铝膜工艺是一种通过物理气相沉积（PVD）实现的表面处理技术，以下是核心工艺流程：
基材预处理
目的：去除表面杂质，提升附着力。
具体要求：需满足耐热性、低挥发性、表面平滑度及与镀层粘接性好等条件。
真空环境建立
操作：通过机械泵和分子泵将真空室压力降至一定程度。
意义：避免空气分子干扰铝蒸汽沉积，确保薄膜均匀性和纯度。
加热与铝蒸发
设备：使用电子束蒸发器或电阻加热蒸发舟。
参数：铝丝在高温下熔化并蒸发为气态，需精确控制温度以保证蒸发效率。
铝层沉积与冷却
过程：移动基材通过真空室，气态铝在其表面冷凝形成连续金属层。
关键控制：调节基材移动速度、蒸发速率及真空度，以控制镀层厚度。
后处理
收卷与检测：包括附着力测试、厚度测量等，常用胶带法或热封剥离试验进行质量验证。
