大部分氧化物薄膜进行材料方面都有自己很多企业相似的性质，一般我们常用的氧化物材薄膜料三氧化二铝、二氧化硅等氧化物纳米材料的特点为：具有一种耐高温、抗热冲击、机械设计强度高、坚硬等特点。

氧化铝作为一种高折射率材料，广泛应用于多层介质膜中。 氧化铝薄膜由于其优异的光学性能、高的机械强度和硬度、良好的透明性和绝缘性、耐磨性、耐腐蚀性和化学惰性，在光学领域得到了广泛的应用。 膜的光学性质强烈地取决于涂覆条件和诸如杂质污染的其它因素。 由于其自身的稳定性，通常将其用作涂覆过程中的保护层的最后膜。

由于氧化铝薄膜在可见光和近红外区没有吸收峰，因此氧化铝薄膜是一种有吸引力的光纤掺杂材料。该掺铒光纤放大器具有高增益、低噪声、宽带宽和高饱和输出功率的优点，石英模光纤的最小能量消耗波长为1.55 μm，因此在光纤通讯中作为继电放大器、功率放大器和前置放大器，是实现核心部件的全光传输。

二氧化硅是唯一的分解小的低折射率氧化物，其折射率为1.46。二氧化硅薄膜可以作为一个重要的纳米复合薄膜结构材料，具有宽透明区（0.15~8?um）、高硬度、低热膨胀风险系数、耐摩擦、耐酸碱、抗腐蚀等优点，被广泛研究应用于中国光学薄膜主要元件、半导体技术集成系统电路、电子控制器件、传感器、激光显示器件、化学工业催化、生物学习医学、表面通过改性和医药产品包装等领域。