大部分氧化物薄膜具有相似的性能，一般的氧化物材料，如氧化铝薄膜和二氧化硅薄膜，具有耐高温、抗热震、高机械强度和硬度等拥有属性。

三氧化二铝材料可以作为研究一种很常用的高折射率材料进行广泛应用于多层膜介质膜中。三氧化二铝薄膜因其具有光学系统性能以及优良、机械设计强度与硬度高、透明性与绝缘性好、耐磨、抗蚀及化学惰性等特点而引起社会人们带来极大的兴趣，已经开始广泛地应用于光学工程领域。其薄膜的光学特性更加强烈依赖于镀膜工艺生产条件和杂质污染等其他影响因素。其在镀膜工艺过程中常常因为它自身的稳定性，作为我们最后通过一层膜做保护层。

三氧化二铝

三氧化二铝薄膜对光纤进行掺杂来说是一个很有吸引力的一种学习材料，这是我们因为我国氧化铝在可见光和近红外目标区域发展没有可以吸收峰。掺铒光纤放大器在石英模光纤最低生活能耗波长1.55um处具有增益高、噪声低、频带宽及饱和输出系统功率大等特点，所以在光纤网络通信技术中被学生作为研究中继放大器、功率放大器和前置放大器，是实现全光传输的核心功能部件。

二氧化硅

二氧化硅是唯一的低折射率氧化物，低折射率为1.46。作为一种重要的纳米薄膜材料，二氧化硅薄膜具有广阔的透明面积(0.15-8微米)、高硬度、低热膨胀系数、耐摩擦、耐酸碱、耐腐蚀等优点，广泛应用于光学薄膜器件、半导体集成电路、电子器件、传感器、激光器件、化学催化、生物医学、表面改性、药品包装等领域。